顶尖财经网(www.58188.com)2018-4-2 13:45:56讯：
清洗工艺步骤占所有工艺步骤数30%，是半导体性能的重要保证。晶圆加工工艺十分复杂，20nm 技术节点工艺步骤约1000 步，7nm 技术将超过1500 步。每经过一道芯片制造工艺，晶圆表面或多或少会被污染，因此几乎所有制程之前或后都需要清洗，清洗工艺约占所有步骤的30%。清洗工艺不仅需要超强去污，而且不能对晶片表面的精细图形结构造成损伤，因此半导体清洗设备也有较高的行业进入壁垒。随着设备尺寸缩小到20 纳米以下，制程复杂性会进一步提升，清洗步骤数量会不断大幅度增长，清洗工艺的重要性大幅提升。
北方华创清洗机设备覆盖整个泛半导体行业，收购Akrion 将如虎添翼。北方华创可提供多种类型的单片清洗设备和槽式清洗设备，已广泛应用于集成电路、半导体照明、先进封装、MEMS 和功率器件等领域。北方华创自主研发的应用于IC 制造中铜互连清洗工艺的新一代Saqua 系列单片清洗机达到国际同类型产品先进水平。2016 年12 月，Saqua 系列12 英寸清洗机在中芯国际完成52万片生产线流片。2017 年2 月，再次获得中芯国际二次订单，进入中芯国际B2 芯片生产线。同年7 月，Saqua 单片清洗机进驻中芯北方28 纳米生产线。2017 年8 月，北方华创以1500 万美元现金拟收购美国半导体硅片清洗设备公司Akrion，12 月收购事项通过美国外资投资委员会审核。本次收购将使得北方华创清洗机产品线得以补充，形成种类众多、产品广泛的8-12 英寸批式和单片清洗机产品线，极大地拓展了北方华创在清洗机设备领域的产销体系。
全球半导体晶圆清洗设备市场高端垄断，2016-2024 复合年增长率将达到7.7%。全球半导体晶圆清洗设备市场的前三名厂商Lam Research、东京电子和DNS 在2015 年占据市场87.7%的份额。随着下游消费电子的快速增长，TMR预计全球半导体晶圆清洗设备市场2016-2024 年复合年增长率将达到7.7%，2016 年半导体晶圆清洗估值为40.2 亿美元，到2024 年底将达到72.8 亿美元。亚太地区半导体产业市场广阔、政府扶持，未来将主导晶圆清洗设备市场。
盈利预测与投资建议。预计2017-2019 年EPS 分别为0.27 元、0.67 元、0.94元。考虑公司所处半导体设备行业的高景气值，公司作为行业稀缺标的，给予公司2018 年70 倍估值，对应目标价46.9 元，维持“买入”评级。
风险提示：集成电路装备行业随集成电路产业的周期性波动而波动；半导体装备业务增速或不及预期。